真空鍍膜機(jī)主要指一類(lèi)需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，真空鍍膜有很多種類(lèi)，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。應(yīng)用較多的是蒸發(fā)和濺射兩種。蒸發(fā)鍍膜和磁探濺射鍍膜的特點(diǎn)如下:
? ? ? ?一、對(duì)于蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)，并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng)）形成薄膜。
? ? ? ? 1、厚度均勻性主要取決于：A.基片材料與靶材的晶格匹配程度；B.基片表面溫度；C.蒸發(fā)功率、速率；D.真空度；E.鍍膜時(shí)間、厚度大小。
? ? ? ? 2、組分均勻性：蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同上，但是由于原理所限，對(duì)于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。
? ? ? ? 3、晶向均勻性：1．晶格匹配度2．基片溫度3．蒸發(fā)速率二.濺射類(lèi)鍍膜可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái)，并且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，最終形成薄膜。

???????二、磁控濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對(duì)較差（因?yàn)槭敲}沖濺射），晶向（外沿）生長(zhǎng)的控制也比較一般。
? ? ? ?鍍膜產(chǎn)品的光學(xué)檢測(cè)可以根據(jù)產(chǎn)品的需求，運(yùn)用真空鍍膜在線(xiàn)測(cè)試儀進(jìn)行在線(xiàn)檢測(cè)和控制。