真空鍍膜實(shí)質(zhì)上是在高真空狀態(tài)下利用物理方法在鍍件的表面上鍍上一層薄膜的技術(shù)，它是一種物理現(xiàn)象。是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝；真空鍍膜按其方式不同可分為真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和現(xiàn)代發(fā)展起來(lái)的離子鍍膜。真空鍍膜在生產(chǎn)過(guò)程中鍍膜厚度的均勻性能反應(yīng)出鍍膜產(chǎn)品品質(zhì)，真空鍍膜在線檢測(cè)如今市場(chǎng)上已有專業(yè)的檢測(cè)儀器---光密度在線檢測(cè)儀。
一些光學(xué)零件的光學(xué)表面需要用物理方法或化學(xué)方法鍍上一層或多層薄膜，使得光線經(jīng)過(guò)該表面的反射光特性或透射性特性發(fā)生變化，許多機(jī)械加工所采用的刀具表面也需要沉積一層致密的、結(jié)合牢固的超硬鍍層而使其得以硬化，延長(zhǎng)其使用壽命，提高切削效率，從而改善被加工部件的精度和光潔度。目前，作為物理鍍膜方法的真空鍍膜，尤其是納米級(jí)超薄膜制作技術(shù)，已廣泛地應(yīng)用在電真空、無(wú)線電、光學(xué)、原子學(xué)、空間技術(shù)等領(lǐng)域及我們的生活中。

真空鍍膜其中有一種光密度法，光密度（OD）定義為材料遮光能力的表征；它用透光鏡測(cè)量。光密度沒(méi)有量綱單位，是一個(gè)對(duì)數(shù)值，通常僅對(duì)鍍鋁薄膜和珠光膜進(jìn)行光密度測(cè)量。光密度和透光率成一定的反比關(guān)系，可以用公式來(lái)表示：OD=log10（入射光/透射光）或OD=log10（1/透光率）。即光密度是入射光與透射光比值的對(duì)數(shù)或者說(shuō)是光線透過(guò)率倒數(shù)的對(duì)數(shù)。
通常鍍鋁膜的光密度值為1－3（即光線透過(guò)率為10%－0.1%），數(shù)值越大鍍鋁層越厚，美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)局的ANSI/NAPM IT2.19對(duì)試驗(yàn)條件做了詳細(xì)規(guī)定。
OD是optical density（光密度）的縮寫(xiě)，表示被檢測(cè)物吸收掉的光密度，是檢測(cè)方法里出現(xiàn)的專有名詞。一般人理解較困難，具體檢測(cè)涉及到很多物理等方面知識(shí)。你只須知道是陰性即可光通過(guò)被檢測(cè)物，前后的能量差異即是被檢測(cè)物吸收掉的能量，特定波長(zhǎng)下，同一種被檢測(cè)物的濃度與被吸收的能量成定量關(guān)系。檢測(cè)單位用OD值表示，OD=1og（1/trans），其中trans為檢測(cè)物的透光率值。