真空鍍膜設(shè)備離子鍍膜機與蒸發(fā)鍍膜機、濺射鍍膜機相比，最大的特點是荷能離子一邊轟擊基體與膜層，一邊進行沉積。鍍膜生產(chǎn)過程中對鍍膜層厚度均勻性檢測至關(guān)重要，真空鍍薄膜可以通過透光率光密度光學(xué)性能來檢測鍍膜層厚度的均勻性，目前市場上林上科技有一款專業(yè)的在線涂層測厚儀可連續(xù)監(jiān)控鍍薄膜在線生產(chǎn)的鍍膜品質(zhì)。

荷能離子的轟擊作用所產(chǎn)生一系列的效應(yīng)，主要有如下幾點：
? ? ? ?1：膜/基結(jié)合力（附著力）強，膜層不易脫落。由于離子轟擊基體產(chǎn)生的濺射作用，使基體受到清洗，激活及加熱，既可以去除基體表面吸附的氣體和污染層，也可以去除基體表面的氧化物。離子轟擊時鏟射的加熱和缺陷可引起基體的增強擴散效應(yīng)。既提高了基體表面層組織結(jié)晶性能，也提供了合金相形成的條件。而且，較高能量的離子轟擊，還可以產(chǎn)生一定的離子注入和離子束混合效應(yīng)。
? ? ? ?2：離子鍍膜機由于產(chǎn)生良好的繞射性。在壓力較高的情況下（≧1Pa）被電離的蒸汽的離子或分子在到達基體前的路程上將會遇到氣體分子的多次碰撞。因此，可使膜材粒子散射在基體的周圍。從而改善了膜層的覆蓋性。而且，被電離的膜材離子，還會在電廠的作用下沉積在具有負電壓基體表面的任意位置上。因此，這一點蒸發(fā)鍍是無法達到的。
? ? ? ?3：鍍層質(zhì)量高。由于離子轟擊可提高膜的致密度，改善膜的組織結(jié)構(gòu)，使得膜層的均勻度好，鍍層組織致密，針孔和氣泡少。因此，提高了膜層的質(zhì)量。
? ? ? ?4：沉積速率高，成膜速度快，可制備30um的厚膜。
? ? ? ?5：鍍膜所適用的基體材料與膜層材料均比較廣泛。適用于在金屬或非金屬表面上鍍制金屬、化合物、非金屬材料的膜層。如在鋼鐵、有色金屬、石英、陶瓷、塑料等各種材料表面鍍膜。由于等離子體的活性有利于降低化合物的合成溫度，因此離子鍍比較容易地鍍制各種吵硬化合物薄膜。
? ? ? ?由于離子鍍膜機具有上述特點，所以其應(yīng)用范圍極為廣泛。利用離子鍍技術(shù)可以子在金屬、合金、導(dǎo)電材料甚至非導(dǎo)電材料（采用高頻偏壓）基體上進行鍍膜。離子鍍沉積的膜層可以是金屬膜、多元合金膜、化合物膜；既可鍍單一鍍層，也可鍍復(fù)合膜層；還可以鍍梯度鍍層和納米多層鍍層。采用不同的膜材，不同的反應(yīng)氣體以及不同的工藝方法和參數(shù)，可以獲得表面強化的硬質(zhì)耐磨鍍層，致密且化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定的耐蝕鍍層，固體潤滑層，各種色澤的裝飾鍍層以及電子學(xué)、光學(xué)、能源科學(xué)等所需的特殊功能鍍層。離子鍍技術(shù)和離子鍍的鍍層產(chǎn)品已得到非常廣泛的應(yīng)用。